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          洛陽愛科麥鎢鉬科技股份有限公司
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        返回首頁    電話：13838452776 18137990392   股票代碼：870809    中  /  EN  
      
      
    
      
  
      

      



      
  
      
    
      
      
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                            磁控濺射靶材
                            2017-11-21 00:00:00
                        
      
                        
                        
      濺射是一種先進的薄膜材料制備技術,它利用離子源產生的離子,在真空中加速聚集成高速離子流,轟擊固體表面,離子和固體表面的原子發生動能交換,使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面,從而形成納米(或微米)薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。鎢鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜,這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品,如目前廣泛應用的TFT-LCD(ThinFilmTransitor 
      
                            詳細>
                      
                      
                    
                
      
                                
                                                
      
                    
                        
      
                            電阻式蒸發源
                            2017-11-21 00:00:00
                        
      
                        
                        
      蒸發式鍍膜機常用蒸發源是用來加熱膜材使之汽化蒸發的裝置。目前所用的蒸發源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。電阻加熱式蒸發源：電阻式蒸發源簡單、經濟、可靠，被普遍應用。電阻加熱式蒸發源的發熱材料一般選用W、Mo、Ta、Nb等高熔點金屬及Ni和Ni-Cr合金。

　　該蒸發源具有以下特點：

　　1、高熔點;2、低的飽和蒸氣壓;3、化學性能穩定。

　　電阻加熱式蒸發源中使用鎢鉬產品的部件包括：

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                            詳細>
                      
                      
                    
                
      
                                
                                                
      
                    
                        
      
                            鎢舟 鉬舟
                            2017-11-21 00:00:00
                        
      
                        
                        
      每種鎢舟可提供經電解拋光和普通兩種下圖上為普通鎢舟，下為電解拋光鎢舟以下各舟型均可制作鉬舟，除折疊舟以外均可做成鎢舟一些種類可以提供同一形狀但不同厚度也可根據您需要的舟型設計模具并制造鎢舟和鉬舟是真空蒸發鍍膜行業中電阻式蒸發源的組成部分。電阻加熱蒸發裝置結構較簡單，成本低，操作簡便，應用普遍。鎢和鉬材料需具有以下特點:①高熔點②低的飽和蒸氣壓③化學性能穩定所以被大量用于真空蒸發鍍膜行業中電阻式蒸發 
      
                            詳細>
                      
                      
                    
                
      
                                
                                                
      
                    
                        
      
                            燈絲
                            2017-11-21 00:00:00
                        
      
                        
                        
      金屬鎢鉬制成燈絲除了用來發光外，還是良好的電阻發熱元件。由于其優良的純度，耐腐蝕性及耐高溫性，成為蒸發鍍膜的電子束蒸發源和電阻式蒸發源以及離子植入的離子源重要的部件。 
      
                            詳細>
                      
                      
                    
                
      
                                
                                                
      
                    
                        
      
                            電子束蒸發源--電子槍
                            2017-11-21 00:00:00
                        
      
                        
                        
      電子束蒸發的原理是基于電子在電場作用下，獲得動能打到蒸鍍材料上，使蒸鍍材料加熱汽化，而實現蒸發鍍膜。電子槍是電子束蒸發源。它由燈絲及其連接的陰極、聚束極、和陽極組成。其中燈絲和陰極通常由鎢或鉬材料制成。電子槍加熱特點：　　1、電子槍加熱比電阻加熱具有更高的能量密度，可以蒸發高熔點材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到較高的蒸發速率；　　2、被丁發材料置于水冷銅坩堝內，可避免坩堝材料污染，可制備高 
      
                            詳細>
                      
                      
                    
                
      
                                
                                                
      
                    
                        
      
                            陰極
                            2017-11-21 00:00:00
                        
      
                        
                        
      真空鍍膜行業中有時很多材料不能用電阻加熱的形式蒸發，例如常用于可見光和近紅外光學器件鍍膜的絕緣材料。在這種情況下，須采用電子束加熱方式。電子束加熱的蒸發源是電子槍。其陰極材料通常選用鉬，并成對使用，通常被稱為左右陰極。 
      
                            詳細>
                      
                      
                    
                
      
                                
                                                
      
                    
                        
      
                            MOVCD機鎢鉬零件
                            2017-11-21 00:00:00
                        
      
                        
                        
      金屬有機物化學氣相沉積(簡稱MOCVD)是技術生長III-V族，II-VI族化合物及合金的薄層單晶的主要方法。用氫氣或氮氣作為載氣，通入液體中攜帶出蒸汽，與V族的氫化物(如NH3、PH3、AsH3)混合，通入反應室，在加熱的襯底表面發生反應，外延生長化合物晶體薄膜。 
      
                            詳細>
                      
                      
                    
                
      
                            
      
            
            
      
                    
					
					
      
				
      
	                	
      
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